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Chris Mack 在 X 说什么、押什么
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118已盯发声更新 2026-06-26
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A 💬 最近提及
0 筛选标的 全部 ASMLKLACINTCTSMAMATLRCXONTOMKSITERSNPSMUSSNLF4062.T
AASML 多年SPIE日记的价值在时间戳，Mack的判断能被后续路线图和量产事实回测。 06-26
KKLAC PROLITH经历让他把路线图拆成剂量、对比度、胶化学、显影和噪声。 06-26
CCOHR 光子器件常要求亚纳米LER，特征尺寸虽大，量测精度却比逻辑节点更苛刻。 06-26
KKLAC SEM电压对比可观察电荷随时间耗散，为栅漏电等电性问题提供新入口。 02-27
KKLAC 电压对比SEM把量测从图像扩展到电性行为，可用于观察栅漏电等问题。 02-28
KKLAC AI在量测里有价值，但必须绑定物理边界和训练分布，不能替代工艺理解。 02-29
AASML EUV单层EPE受掩膜地形、像差、杂散光和焦点影响，NILS损失需逐项预算。 03-02
LLRCX 干式工艺是EUV随机性候选解法，但需用LCDU、缺陷和蚀刻后结果证明。 03-04
KKLAC Mack把随机粗糙度从论文问题推向软件产品，说明量测瓶颈正在商业化。 03-01
💬观点 他认为先进半导体与光子器件中，随机变异已占图形化误差的50%以上。
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